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  荷兰、日本和美国达成协议的消息已经引起了全球半导体行业的关注，但是荷兰和日本都已经宣布了要对更多的半导体设备做限制，这表明了三方在半导体领域的合作还有很多不确定性。

  其中，日本宣布了对23项半导体设备的限制细则，这表明日本在加强对外国技术的管控方面已经采取了更加严格的措施。而荷兰则表示还有很多旧款设备能对中国出货，这表明荷兰在限制出口方面还有一定的灵活性。

  同时，有必要注意一下的是，目前荷兰、日本和美国的半导体产业布局存在一定的差异。荷兰和德国等国家主要是做半导体设备等领域，而日本则在存储器等领域占有一席之地。

  除了光刻机之外，芯片制造还需要刻蚀机、清洗机、抛光机、离子注入机、薄膜沉积等设备。这些设备的成本加起来占据了芯片制造总成本的很大一部分。

  刻蚀机是制造芯片过程中最关键的设备之一，它能够在硅片上刻出微米级别的线路和电路图案。刻蚀机的成本非常高，占据了整个芯片制造设备成本的20%左右。

  清洗机用于去除制作的完整过程中产生的污垢和杂质，它是芯片制造中必不可少的设备之一。清洗机的成本也非常高，占据了整个芯片制造设备成本的15%左右。

  抛光机是用于研磨和平滑硅片表面的设备，它能够去除硅片表面的凸起和划痕，提高芯片的品质和良率。抛光机的成本也非常高，占据了整个芯片制造设备成本的10%左右。

  离子注入机是用于在硅片上注入离子的设备，它能够为芯片提供所需的电性能和化学性能。离子注入机的成本也非常高，占据了整个芯片制造设备成本的5%左右。

  薄膜沉积机是用于在硅片上沉积薄膜的设备，它能够为芯片提供所需的物理和化学性能。薄膜沉积机的成本也非常高，占据了整个芯片制造设备成本的5%左右。

  因此，尽管光刻机在芯片制造中很重要，但其成本只占据了整个设备成本中很小的一部分。别的设备的成本也同样很高，但它们在芯片制造中发挥着至关重要的作用。

  虽然光刻机的占比不算太大，但没有光刻机，却没办法完成芯片的最后一道工艺。这确实让人伤心。

  ASML是全球领先的半导体设备制造商之一，尤其是在EUV光刻机领域拥有领先的技术水平和市场占有率。然而，掌握高端EUV光刻机技术并不是一件容易的事情，需要大量的研发投入和技术积累。

  关于美日荷联手达成协议的事情，虽然目前还没有官方宣布，但是从荷兰以及日本官宣的消息来看，的确和美国站在一起了。这原因是在全球芯片制造业中，美国、日本和荷兰都是重要的参与者，它们之间的合作有助于形成更稳定和有利的市场环境。

  近年来，中国在半导体领域加大了投入和研发力度，已经取得了一些成果。特别是在刻蚀机、清洗机、抛光机等设备方面，中国已经实现了一定的技术突破。此外，在芯片设计和制造方面也有不少创新和进展。

  荷兰心里跟明镜似的，一旦失去中国市场，将会对荷兰的半导体产业带来严重的打击。为维护与中国的贸易关系，荷兰政府只能采取一些相对温和的措施，以确保荷兰的半导体产业能够继续发展。

  荷兰的态度有了明显的转变，现在就剩下傻乎乎的日本还跟在美国身后。且美日还准备联合推出2nm芯片。

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